产品特性
- 基于Shack-Hartmann波前传感技术的高精度表面形貌测量系统
- 能够测量晶圆表面的平整度、波前畸变和局部形变
- 为半导体制造工艺提供关键的质量控制数据
- 系统采用激光干涉测量原理，具有极高的测量精度和稳定性
- 支持大面积扫描测量，可生成详细的表面形貌图和统计分析报告
应用场景
- 用于晶圆平整度检测、CMP工艺监控、薄膜应力分析等应用
- 特别适用于先进封装、3D集成电路制造中的表面质量控制
技术参数
测量精度< 1nm RMS
测量范围±100μm
空间分辨率10μm
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测量速度< 30秒/点
晶圆尺寸200mm, 300mm
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表示该参数支持定制化
核心优势
- 纳米级测量精度
- 大面积扫描能力
- 实时数据处理
- 详细统计分析
- 高稳定性设计